中国最大的光刻机制造商。

目前，上海微电子已经量产了最先进的SSA600/20系列光刻机，仍然采用193nmArF光源技术，可用于低端90nm芯片。更重要的是，上海微电子的光刻机设备在国内低端光刻机设备领域占有近80%的市场份额。据国内官媒最新报道，上海微电子28nm工艺节点的下一代光刻机明年可以量产交付，这意味着国产光刻机设备即将掀起中国换代的浪潮。取得重大技术突破的上海微电子，未来发展潜力无限。上海微电子设备有限公司位于张江高科技园区，毗邻国家集成电路产业基地、国家半导体照明产业基地、国家863信息安全成果产业化(东部)基地等多个国家级基地。公司成立于2002年，主要致力于R&D、大规模工业生产用投影光刻机的生产、销售和服务。其产品可广泛应用于IC制造和先进封装、MEMS、TSV/3D、TFT-有机发光二极管等制造领域。

目前，中国的光刻机制造商发展迅速。虽然他们比西方国家落后一步，但未来是光明的。光刻机的种类和品牌很多，重要功能也不一样。MaskAligner又称掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统，是制造芯片的核心设备。它使用类似于照片印刷的技术，通过曝光将掩模上的精细图案印刷到硅片上。光刻机品牌众多，根据技术路线的不同可以分为以下几类:高端投影光刻机分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在七纳米到几微米之间。高端光刻机被称为世界上最精密的仪器，世界上有价格1.2亿美元的光刻机。高端光刻机堪称现代光学产业之花，其制造难度之大，全球只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要是荷兰的阿斯麦(镜头来自德国)、日本的尼康(高端光刻机，英特尔曾经从它手里买过尼康)和日本的佳能。位于中国上海的SMEE公司开发了具有自主知识产权的投影式中档光刻机，形成了产品系列，初步实现了国内外销售。R&D和其他系列产品的生产正在进行中。用于生产线和R&D的低端光刻机是接近式和接触式光刻机，分辨率通常在几微米以上。主要有德国sus，美国MYCRONXQ4006，中国品牌。

光刻机按照操作的简单程度一般分为三种:手动、半自动和全自动。a手动:指对准的调整方式，即通过手动调整旋钮改变其X轴、Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知低；b半自动:是指通过电轴可以根据CCD进行定位和调准；c自动:指从基板上传下载，曝光时长和周期由程序控制。自动光刻机主要满足工厂对处理能力的需求。高精度对准系统的制造需要近乎完美的精密机械技术，这也是国产光刻机无法企及的技术难点之一。很多美国德国品牌的光刻机都有专门的专利机械技术设计。比如Mycron &；q光刻机采用全气动轴承设计专利技术，有效避免轴承机械摩擦带来的工艺误差。对准系统的另一个技术问题是对准显微镜。为了增强显微镜的视野，很多高端光刻机都采用了LED照明。有两个带聚焦功能的对准系统。主要是1对显微镜主体、目镜和物镜采用双目双视场对准(光刻机通常提供不同放大率的目镜和物镜供用户组合使用)。CCD对准系统的作用是放大掩模和样品的对准标记，并在监视器上成像。