四家国内光刻胶制造商

1，南大光电

在光刻胶方面，公司建立了专业的R&D团队，并建立了大规模的R&D中心和100升级光刻胶中试生产线。产品R&D的进步和成就得到了行业专家的认可。其次，公司具备开发功能单体、功能树脂等光刻胶材料的能力，多项先进的光刻胶产品得到了客户的一致好评。

2、感光能力大

自成立以来，公司一直专注于R&D和生产光刻胶和PCB感光油墨。公司光刻胶产品为紫外正胶和紫外负胶，主要应用领域为平板显示、发光二极管、集成电路等。

3.景瑞电气材料公司

公司是国内为数不多的量产光刻胶的企业之一。经过多年的研发和积累，公司光刻胶产品达到国内外先进水平，光刻胶产品序列完整，产业化规模和盈利能力处于行业领先水平。

4.通程新材料

子公司成立于2004年，是中国唯一拥有荷兰阿斯麦曝光机的光刻胶企业，也是具有自主研发和生产高档光刻胶实力的企业。

光致抗蚀剂介绍

光刻胶又称光致抗蚀剂，是指通过紫外光、电子束、离子束、X射线的照射或辐射，其溶解度发生变化的抗腐蚀剂刻蚀的薄膜材料。一种光敏混合液，由光敏树脂、感光剂和溶剂组成。在光刻过程中，它被用作抗腐蚀涂层材料。当在表面上处理半导体材料时，如果使用适当的选择性光刻胶，可以在表面上获得所需的图像。

光致抗蚀剂可以根据其形成的图像分为正性和负性。在光刻胶工艺中，涂层曝光显影后，曝光部分溶解，留下未曝光部分。涂层材料是正性光致抗蚀剂。如果曝光部分留下，未曝光部分溶解，则涂层材料为负性光刻胶。

根据曝光光源和辐射源的不同，可分为紫外光胶(包括正负紫外光胶)、深紫外胶、X射线胶、电子束胶和离子束胶。光刻胶主要用于精细图形处理操作，如显示面板、集成电路和半导体分立器件。光刻胶的生产工艺复杂，品种规格多。在电子工业的集成电路制造中，对所用的光刻胶有严格的要求。

以上内容参考百度百科-江苏南大光电材料有限公司。