深圳市清逸光电有限公司概况
公司位于有“中国南方硅谷”之称的深圳高新技术产业园区。2007年投入使用的TFT-LCD掩膜版基地青一光电大厦建筑面积2.8万平方米。一期工程有1、10的净化车间，号称“中国第一房”，超过800m2。公司分公司位于高新技术产业园区南区，占地4000平方米，其中900平方米；100级和1000级净化车间内；公司拥有从瑞典、德国、日本、美国和以色列进口的精密光刻生产系统和配套设备。
公司产品主要应用于液晶显示(LCD)和有机电致发光显示(有机发光二极管)等平板显示(FPD)行业、集成电路(ic)及相关行业、印刷电路板(PCB)行业和精细元器件行业，多次填补了国内空白:
TFT、彩色STN、STN和TNLCD铬掩膜；
埃尔，有机发光二极管铬掩模；PDP、VFD铬掩膜；
IC封装，HDI，包括铬掩膜和BGA、CSP、BUMPING等干掩膜；
用于MEMS、传感器和ENCODZR等精细电子元件的铬掩模；
液晶显示器的固体浮雕和液体浮雕；
5438年6月+2008年2月，清逸光电首次被认定为“国家高新技术企业”。
2008年，TFT掩膜项目于4月通过专家组验收，并顺利通过当年中国大陆所有TFT客户的认证。
5438年6月至2007年10月，深圳光掩模技术研发中心在清逸光电成立。
2007年8月，中国第一条TFT-LCD用掩膜生产线——清逸光电TFT-LCD掩膜建成投产，中国第一个大尺寸TFT-LCD阵列正式带掩膜下线。
2007年8月，清漪楼正式竣工投入使用。它是R&D第一个TFT-LCD掩模和中国大陆生产基地。
从5438年6月到2006年10月，国内第一个大尺寸TFT-CF掩膜版在清一研制成功。
2005年，ERP系统上线。
2005年，清逸开始引入TQM(全面质量管理)，并开始向日本戴明奖申报，向更高的管理水平迈进。
2004年，清一成为广东省乃至华南地区第一家获得国家质量管理奖的企业。
5438年6月至2002年2月，与中国科学院联合成立青一工程技术R&D中心，致力于新产品的开发研究，聘请国内外专家组成高级顾问团，为公司提供技术支持和决策支持。
2002年年中，清一引进了国家质量管理奖的卓越绩效模式，实现了质量管理零缺陷到管理质量零缺陷的跨越。
2000年5月，青一开始实施零缺陷管理，创造性地将零缺陷理论应用于公司的全面管理。
1997年8月，清逸公司成立。